COMPOL 系列抛光液主要由高纯度的胶态氧化硅微粒所组成，可避免加工组件产生刮伤的现象。特别适用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。
Type | 20 | 50 | 80 | 120 | EX- Ⅱ | EX-3 | 50S | 5OAD |
iO2含量( % ) | 40 | 40 | 40 | 40 | 30 | 30 | 50 | 50 |
PH | 9.2 | 10.2 | 10.2 | 9.2 | 9.8 | 9.5 | 11.0 | 11.0 |
比重 | 1.30 | 1.30 | 1.30 | 1.30 | 1.205 | 1.385 | 1.375 | 1.375 |
平均粒径 (nm) | 15.0 | 40.0 | 72.0 | 82.5 | 51.0 | 32.5 | 35.0 | 30.0 |
研磨速度(μm/min) | 0.8~1.4 | -- | -- | -- | -- | -- |
